ISO10110系列國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)
ISO 10110 是一系列用于光學(xué)加工與檢驗(yàn)、光學(xué)元件及系統(tǒng)的技術(shù)圖紙繪制及其技術(shù)要求的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。該標(biāo)準(zhǔn)始于 1979 年，由 ISO/TC172/SCI/WG2 起草，并于 1996 及 1997 年分兩部分內(nèi)容正式頒布實(shí)施。ISO 10110 的基礎(chǔ)來(lái)自于德國(guó)標(biāo)準(zhǔn) DIN 3140.但起草專家組成員在光干涉術(shù)、表面計(jì)量術(shù)以及激光技術(shù)等領(lǐng)域賦予了許多新的內(nèi)容。
ISO 10110 系列標(biāo)準(zhǔn)包含多個(gè)部分，每部分針對(duì)光學(xué)元件和系統(tǒng)的不同方面進(jìn)行了詳細(xì)規(guī)定。以下是一些主要部分的內(nèi)容概述：
ISO 10110-1：概述
提供了 ISO 10110 系列標(biāo)準(zhǔn)的總體介紹和框架。
ISO 10110-2：光學(xué)材料缺陷應(yīng)力雙折射
規(guī)定了光學(xué)材料中應(yīng)力雙折射的允許值及其測(cè)量方法。
ISO 10110-3：光學(xué)材料缺陷氣泡與雜質(zhì)
定義了光學(xué)材料中氣泡和雜質(zhì)的分類、允許數(shù)量及尺寸等要求。
ISO 10110-4：光學(xué)材料缺陷非均勻性與條紋
描述了光學(xué)材料中非均勻性和條紋的評(píng)估方法及允許范圍。
ISO 10110-5：面形偏差
規(guī)定了光學(xué)元件表面形狀偏差的公差要求，包括弧矢差、不規(guī)則度、旋轉(zhuǎn)對(duì)稱不規(guī)則度等參數(shù)的測(cè)量和計(jì)算方法。
ISO 10110-6：中心偏差
定義了光學(xué)元件中心偏差的允許范圍及其測(cè)量方法，包括基準(zhǔn)點(diǎn)、線量形式表達(dá)的中心誤差等。
ISO 10110-7：表面缺陷偏差
規(guī)定了光學(xué)元件表面缺陷(如劃痕、麻點(diǎn)、破邊等)的允許數(shù)量、尺寸及評(píng)估方法。
ISO 10110-8：表面微觀輪廓
描述了光學(xué)元件表面微觀輪廓的測(cè)量和評(píng)估方法，包括粗糙度、波紋度等參數(shù)。
ISO 10110-9：表面處理和鍍膜
規(guī)定了光學(xué)元件表面處理和鍍膜的要求，包括鍍膜材料、厚度、均勻性等方面的規(guī)定。
ISO 10110-10：元件技術(shù)要求的格式
提供了光學(xué)元件技術(shù)要求在圖紙上的表示方法和格式要求。
ISO 10110-11：非公差數(shù)據(jù)
定義了光學(xué)元件圖紙中非公差數(shù)據(jù)的表示方法和要求。
ISO 10110-12：非球面
規(guī)定了非球面光學(xué)元件的設(shè)計(jì)、制造和檢驗(yàn)要求。
ISO 10110-13：激光輻射破壞閾值
定義了光學(xué)元件在激光輻射下的破壞閾值及其測(cè)量方法。
ISO 10110 系列標(biāo)準(zhǔn)為光學(xué)元件和系統(tǒng)的制造、檢驗(yàn)及質(zhì)量控制提供了全面、詳細(xì)的技術(shù)規(guī)范，對(duì)于確保光學(xué)產(chǎn)品的質(zhì)量和性能具有重要意義。


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